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(2)溅射镀膜法：溅射镀膜法是使用“溅射”将溅射出的材料沉积到工件的基底或表面上的方法，利用溅射“现象[33]。溅射法可分为直流溅射，离子溅射，
(2)溅射镀膜法：溅射镀膜法是使用“溅射”将溅射出的材料沉积到工件的基底或表面上的方法，利用溅射“现象[33]。溅射法可分为直流溅射，离子溅射，和十分常见的射频溅射，磁控溅射。所谓的“溅射”是指带电粒子轰击目标表面的现象，使目标原子或分子从表面出现。这些溅射的原子将具有一定的动能并具有方向性。大多数溅射的颗粒是原子状态，通常称为溅射原子。用于轰击靶的电荷粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为电场中的离子容易加速并获得所需的动能，所以大多数使用离子作为轰击粒子，离子也是被称为入射离子。溅射镀膜方法现已广泛应用于制备各种功能性纳米薄膜。